15.10.2019

Нанотехнологии в микроэлектронике

  • Издательство: М.: Наука
  • ISBN: 978-5-02-040201-0
  • Год: 2019
  • Колич. страниц: 511
  • Переплет: в пер.
  • Стандарт: 6

СТОИМОСТЬ: 880 руб.

РАСПРОДАНО

В книге представлены результаты междисциплинарных фундаментальных, поисковых и прикладных научных исследований по разработке технологий получения новых наноматериалов и элементной базы электронных устройств новых поколений информационно-телекоммуникационных систем. Рассмотрены возможности практического применения методов проектирования и изготовления сверхбыстродействующих интегральных элементов СБИС и УБИС, многоосевых микромеханических сенсоров угловых скоростей и линейных ускорений, устройств нанопьезотроники, микроэлектронной сенсорики, нейроморфных систем и вакуумной микроэлектроники на основе использования перспективных методов нанотехнологии: молекулярно-лучевой эпитаксии, импульсного лазерного осаждения, плазмохимического осаждения из газовой фазы, сканирующей зондовой микроскопии и зондовой нано-литографии, фокусированных ионных пучков, электронно-лучевой обработки, а также перспективных методов планарной технологии поверхностной обработки.
Для научных работников и инженеров, специализирующихся в области применения нанотехнологий в микроэлектронике, а также для студентов и аспирантов соответствующего профиля.

The results of interdisciplinary fundamental, search and applied scientific research on the development of technologies for obtaining new nanomaterials and the elemental base of electronic devices of new generations of information and telecommunication systems are presented. They expand the possibilities of practical application of the methods of design and manufacturing of ultrafast integral elements of VLSI and ULSI, multi-axis micro-mechanical sensors of angular velocities and linear accelerations, nanoprobe devices, microelectronic sensors, neuromorphic systems and vacuum micro-electronics based on the use promising methods of nanotechnology - molecular-beam epitaxy, pulsed laser deposition, plasma-enhanced chemical vapor deposition, scanning probe microscopy and probe nanolithography, focused ion beams, electron beam processing, and promising methods for the planar surface treatment technology. The monograph characterizes the focus on investigation of ways of solving specific problems arising in the formation of nanostructures and devices based on them, as well as assessing the prospects and difficulties of introducing the developed technologies and methods into industrial technologies.
For scientists and engineers specializing in the field of nanotechnology in microelectronics, students and graduate students of the appropriate profile.